BBIN BBIN宝盈集团佳能推出纳米压印半导体制造设备 或为中美竞争增添新战线

　　日本佳能公司10月13日宣布，将推出fpa-1200nz2c纳米印花（nil）

　　据佳能介绍，传统的光刻设备将电路图案投射到涂有防腐剂的晶片上，而新产品就像邮票一样，在晶片上印上印有电路图案的掩模来实现这一目标。由于电路图案的传递过程不经过光学结构，因此可以在晶片上准确再现掩模的细微电路图案。

　　目前佳能的nil技术将对应5纳米节点逻辑半导体的模式的最小线纳米。此外，随着掩模技术的发展，nil将提供10纳米的最小图案宽度，相当于2纳米节点。

　　5纳米芯片制造设备业界由asml主导，因此佳能的纳米打印方式将缩小其差距。

　　有报道称，佳能的装备也可能成为中美竞争的新战线。美国禁止向中国出口euv设备。这是目前为止能够制造出5纳米或更小芯片的唯一可靠方法。

　　佳能的技术完全超越了光刻技术，可以将必要的电路图案印刷到硅晶片上。由于它的新颖性，现有的贸易限制不太可能明确禁止它。

　　据悉，纳米压力机（nano press）是SK海力士和东芝作为光学光刻的低费用替代方案推进的，东芝的前存储器事业部负责人在纳米压力机商用化之前，曾对佳能的纳米压力机进行过测试。

　　佳能在2014年收购了纳米印花的先驱molecular imprints inc.对该技术进行了近10年的研究。佳能还以2025年启动为目标，20年来首次在东京北部的宇都宫市建设照相设备新工厂。

　　电子元器件，电子元器件包括很多品种：整流桥，二极管，电容等各种IC类，更复杂的还有整流模块等等。ASEMI

　　。众多高技术公司于20世纪60年代成立：1968年，成立英特尔公司。1969年，成立AMD。20

　　工艺基础 /

　　销售额将比2019年的596亿美元增长16%，达689亿美元，创下行业新纪录。全球

　　市场将继续增长，预计2021年达719亿美元，2022年将达761亿美元。

　　蓝图（ITRS）中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技术的代表之一。国内外

　　商、材料商以及工艺商纷纷开始涉足这一领域，短短25年，已经取得很大进展。

　　光刻技术 /

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　　用晶圆测量机“MS-001”，该产品可以对晶片进行高精度的对准测量※1。 在逻辑和存储器等

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　　光刻技术，并试图靠它再次逆袭，日经新闻网也称，对比EUV光刻工艺，使用

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