BBIN14nm芯片实现量产90nm光刻机技术突破中国建立半导体全产业链

　　BBIN bbin前一段时间，中国半导体行业内一直有消息称，中国企业已经实现了14nm芯片的量产，只是一直以来没有明确的官宣和证据表明该消息属实，所以一直存在着不小的争议。

　　近日，上海市委外宣办官宣了中国实现14nm芯片量产的消息这一消息引发了整个中国半导体行业的广泛关注，然而不仅如此。本次和14nm芯片量产一起官宣的，还有90nm光刻机技术的突破。

　　事实上，14nm芯片实现规模量产的消息并非是首次传出，之前就有消息声称，中芯国际在上海建设的晶圆生产线nm的芯片规模量产。只不过因为该生产线还没有完全投入使用，没有产出14nm的芯片，所以很多人都认为该消息并不属实，而本次上海市委外宣办的官宣则是证明了中国已经有了量产14nm芯片的能力。

　　在此之前，中国企业能够生产的最先进的芯片是28nm的成熟工艺芯片，而随着本次的技术突破，中国企业能够实现量产的变成了14nm的先进工艺芯片。虽然本次技术突破看起来仅仅是从28nm到14nm，只不过是技术突破了一代罢了，然而事情并非如此。

　　从28nm成熟工艺和14nm先进工艺两个不同称呼当中的成熟和先进就可以看出来，28nm和14nm可谓是天差地别。

　　28nm是当下芯片使用最广的范围，也是大多数中端智能手机使用的芯片。因为28nm的芯片生产技术已经十分成熟，并且对生产成本也降低了不少，所以28nm的芯片生产规模十分之大。

　　14nm的芯片属于高端先进领域，也是当下大多数高端智能设备使用的芯片，虽然世界上许多企业已经突破高了更先进的领域，但是在这个领域仍然有着许多可以加以改进的地方，并且在生产规模和生产成本方面还没有发展到最优。可以说，迈进了14nm领域，就等于迈进了全球先进半导体领域，其中的意义十分重要。

　　作为生产芯片的生产设备，光刻机在半导体领域的重要性不言而喻。可以说，若是没有对应的光刻机，哪怕再先进的芯片生产技术也像空中楼阁一样，没有丝毫的意义根本无法生产出芯片来。

　　当下全球的光刻机生产主要由荷兰的ASML和日本的尼康、佳能两家光刻机公司所把握，而近年来，随着中国的上海微电子在光刻机领域的不断发展，也逐渐占据了一席之地。

　　但是，上海微电子一直以来都没有实现光刻机的独立生产，这就导致了中国芯片代工企业对于ASML等企业的依赖性极强。然而在本次中国上海市委外宣办的官宣当中提到了中国90nm光刻机实现技术突破。这就意味着，在不远的将来，中国芯片代工企业将会在很大程度上摆脱对于ASML等公司的光刻机依赖，尤其是在90nm及以上的生产领域。

　　万事开头难，中国企业一旦掌握了90nm光刻机的生产技术，那么提升光刻机的精准度，像更低纳米的领域发展就更加简单了。

　　中国企业在光刻机领域实现的技术突破也引发了ASML以及尼康、佳能等企业的恐慌，最近一段时间，ASML加大了对中国DUV光刻机的出口，尼康也宣布要进军中国大陆市场。虽然这些企业是根本目的是在于抢占中国光刻机的市场，打压中国光刻机的发展，但是从某种层面上来说，也帮助了中国半导体行业的发展，解决了中国企业当下芯片产能不足的问题。

　　世界上有那么多在半导体领域技术领先的国家和企业，为何美国对于这些企业不仅不打压，而且还在不断的合作，而对中国企业却要如此打压呢？其中的原因自然是十分复杂的，但是有一点是肯定的，那就是中国的半导体行业建立了完整的产业链，这让美国感到十分恐慌。

　　众所周知，美国凭借着先发优势，在半导体领域有着不少的先进技术，哪怕当下美国芯片制造业外流到日韩等国，美国的半导体行业仍然是世界首屈一指，虽然ASML是世界上最大的光刻机生产商，但是ASML光刻机生产必须要用到美国的技术，所以对于美国的半导体行业及其依赖。

　　相比较于这些企业而言，中国企业建立了完整的半导体产业链，从芯片设计到芯片生产再到光刻机、蚀刻机等生产设备的生产，中国企业都有所涉及。这就意味着，随着中国企业在半导体领域的发展，中国企业就可以不受美国的影响。因此，美国自然要对中国半导体企业和中国半导体行业进行技术封锁和打压，担心中国企业威胁到美国世界半导体领先龙头的地位。

　　写在最后：虽然中国企业当下在半导体行业还十分落后，但是在国家的政策鼓励和企业高校的投入研发之下，中国半导体企业技术不断突破，逐渐让美国的技术封锁成为了一个笑话。