“卖铲人”又有大动作！盛美上海布局半导体前道涂胶显影设备有何深意？BBIN BBIN宝盈集团

　　近日，盛美上海举行了科创板上市周年庆暨新品发布会，以清洗设备起家的盛美上海将通过本次新品正式切入半导体前道涂胶显影领域。

　　盛美上海总经理王坚表示，“公司产品可以覆盖85亿美元市场，随着今后两款全新产品计划的稳步推进，有望实现可服务市场翻一番，从而将盛美打造成为全球化发展的平台化公司。”

　　据介绍，盛美上海本次发布的新产品是前道涂胶显影Track设备Ultra LITH。该设备采用自主全球专利申请保护的全新系统结构设计，拥有稳定的电控架构及强大的软件系统，且具可扩张性，可以支持300WPH及未来下一代高产出光刻机400WPH的更高产出需求；搭载了高速稳定的机械手系统，多机械手协同配合，可实现晶圆传输路径的优化，提高传输效率。

　　值得注意得是盛美半导体是国内镀铜设备的唯一国产供应商。此次转战半导体前道涂胶显影领域盛美上海究竟有何深意？

　　众所周知半导体设备与新建产线关联度较高，具备周期性强、空间大等特点，半导体材料有耗材属性，具备周期性弱、持续性好等特点。

　　目前大力提高中国大陆半导体设备及材料供应商的竞争力，对保障中国半导体产业链安全具有显著的溢出效益，有助于大大降低美国等出口管制所带来的风险。因此，尽管存在巨大的进入壁垒，中国政府将继续重点支持本土的半导体设备及材料行业，即使在中美关系缓和以及设备松绑的情况下，国产化大趋势不变。

　　盛美上海深耕半导体清洗设备十余年，为国内半导体清洗设备行业龙头企业，主要产品包括半导体单片清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备等，服务客户包括长江存储、华虹集团、SK 海力士、中芯国际、合肥长鑫、长电科技、通富微电等多家知名半导体企业。

　　值得注意的是在2022年全球消费电子低迷，负面情绪向上传导，导致全球半导体公司业绩增长速度下滑，以台积电为代表的代工公司屡屡遭到上游公司砍单。

　　在市场消极的情况下盛美上海 2022 年上半年半导体清洗设备、前道半导体电镀设备和先进封装湿法设备(包含后道 电镀设备)的营业收入均有较大增长。营业收入为 10.96 亿元，同比增长 75.21% 。尤其是扣除非经常性损益的净利润同比增长426.9%，盛美上海经营性收入增长迅猛，主营业务盈利能力强。

　　2022年2月份，盛美上海获得了29台Ultra C wb槽式湿法清洗设备的批量采购订单，其中最大一笔16台重复订单来自同一家中国国内代工厂；同月盛美上海收到13台Ultra ECP map前道铜互连电镀设备及8台Ultra ECP ap后道先进封装电镀设备的多个采购订单，其中10台Ultra ECP map设备订单为一家中国顶级集成电路制造厂商的追加订单；5月，盛美上海与一家中国领先的先进晶圆级封装客户签订了10台Ultra ECP ap高速电镀设备的批量采购合同。随着公司产品得到行业主流客户的认可，获取订单成规模化趋势明显。

　　进入2022年以来，半导体公司业绩增长放缓，负面情绪传导至板块股价。板块股价今年以来下跌约50.8%。

　　但是在优秀业绩的支撑下，盛美上海今年股价几乎维持在年初的水平，截止11月28日午盘收盘，公司上涨0.39%股价为82.08元／股，盛美上海股价抗跌性强。

　　2022年上半年盛美上海研发投入总额为1.87亿元，占营收比例为17.05%，维持高水平投入。

　　上半年盛美上海新增发明专利申请24个，获取发明专利21个，研发成果显著。

　　4月，盛美上海18腔300mm Ultra C VI单晶圆清洗设备已成功投入量产，支持先进逻辑、DRAM和3D NAND制造所需的大多数半导体清洗工艺，产能较12腔设备提升50%；5月，推出升级版的涂胶设备，对原有设备的性能和外观进行了优化，应用于先进晶圆级封装；并于近日宣布推出新型化学机械研磨后（Post-CMP）清洗设备。

　　业绩节节攀升、产品迭代升级，盛美上海当下发展势头迅猛，但所处的行业可能随时面临下游市场需求衰退的影响，这就需要在“第一增长曲线”的“极限点”出现之前，寻找“第二增长曲线”的“破局点”。盛美上海此刻正式切入半导体前道涂胶显影领域生正逢时。

　　以清洗设备起家的盛美上海将通过本次新品正式切入半导体前道涂胶显影领域。从光刻产业来看，涂胶显影在前道晶圆制造的光刻环节中发挥着重要作用，是光刻机的输入和输出端，与光刻机配合工作，在曝光前进行光刻涂胶覆盖，在曝光后进行图形的显影。据Gartner数据显示，2021年，全球的涂胶显影设备市场规模将达37亿美元，据此推算，中国市场规模已达40亿人民币。

　　但整个市场呈现出一家独大的局面。目前，业内厂商主要有东京电子(TEL)、日本迪恩士(DNS)、德国苏斯微(SUSS)、台湾亿力鑫(ELS)和国内的芯源微。其中，仅东京电子一家便占据了全球88%和中国91%的涂胶显影设备市场份额，下游制造商迫切希望能有更多的选择。

　　特别是在国内市场，半导体设备国产替代已是大势所趋，但国内涂胶显影设备市场制造商稀少，国产化率不足5%，涂胶显影设备的国产替代情势严峻。而盛美上海最新推出的Ultra LITH设备可谓是恰逢其时。

　　从盛美上海自身的发展来看，涂胶显影Track设备是公司继半导体清洗设备、半导体电镀设备、先进封装湿法设备、立式炉管设备四大产品系列外的又一新产品系列。在五大系列产品的支持下，盛美上海已然成为国内平台级的半导体设备制造商。